Non-contact XUV metrology of Ru/B 4 C multilayer optics by means of Hartmann wavefront analysis - ENSTA Paris - École nationale supérieure de techniques avancées Paris Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied optics Année : 2018

Dates et versions

hal-01773850 , version 1 (23-04-2018)

Identifiants

Citer

Mabel Ruiz-Lopez, Hugo Dacasa, Benoît Mahieu, Magali Lozano, Lu Li, et al.. Non-contact XUV metrology of Ru/B 4 C multilayer optics by means of Hartmann wavefront analysis. Applied optics, 2018, 57 (6), ⟨10.1364/AO.57.001315⟩. ⟨hal-01773850⟩
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