Non-contact XUV metrology of Ru/B 4 C multilayer optics by means of Hartmann wavefront analysis - ENSTA Paris - École nationale supérieure de techniques avancées Paris
Article Dans Une Revue Applied optics Année : 2018

Non-contact XUV metrology of Ru/B 4 C multilayer optics by means of Hartmann wavefront analysis

Domaines

Physique [physics] Optique [physics.optics]

Pierre Zaparucha  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://ensta-paris.hal.science/hal-01773850

Soumis le : lundi 23 avril 2018-11:18:19

Dernière modification le : lundi 5 août 2024-14:50:03

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Dates et versions

hal-01773850 , version 1 (23-04-2018)

Identifiants

Citer

Mabel Ruiz-Lopez, Hugo Dacasa, Benoît Mahieu, Magali Lozano, Lu Li, et al.. Non-contact XUV metrology of Ru/B 4 C multilayer optics by means of Hartmann wavefront analysis. Applied optics, 2018, 57 (6), ⟨10.1364/AO.57.001315⟩. ⟨hal-01773850⟩

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